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中国工信部9月初公布的“首台（套）重大技术装备推广应用指导目录（2024年版）”的通知中，列出全新自制DUV曝光机，分辨率为≤65nm，套刻精度≤8nm。许多中国民众乐翻，高喊中国突破美国封锁，瞎扯“可生产8奈米芯片”，惨 ... [ 查看全文 ]
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中媒直言，此款新的DUV曝光机仅能生产65奈米或以下芯片，有人看到“套刻≤ 8nm”就认为这是8奈米曝光机，令人啼笑皆非。
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