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传出好消息,中芯国际制程有望赶超英特尔

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发表于 2020-10-18 19:49:36 | 只看该作者 回帖奖励 |倒序浏览 |阅读模式

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近日,中国的半导体产业传出一系列消息。中芯国际官宣完成了FinFET N+1先进工艺的芯片流片和测试,所有IP全部是自主国产,很快就能实现7nm芯片的量产;全球最大光刻机生产巨头ASML对外宣布,可以从荷兰向中国出口DU ... [ 查看全文 ]

§ 发表于 2020-10-18
超出英特尔很有意思吗?英特尔自己的高端芯片都要找别人代工了。
沙发
发表于 2020-10-19 08:54:19 来自客户端 | 只看该作者
DUV光刻机的最高分辨率是28纳米。而EUV光刻机的最高分辨率可达3纳米。中芯国际不可能用DUV光刻机做出7纳米的产品!
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板凳
发表于 2020-10-19 08:59:47 | 只看该作者
诚实人 发表于 2020-10-19 08:54
DUV光刻机的最高分辨率是28纳米。而EUV光刻机的最高分辨率可达3纳米。中芯国际不可能用DUV光刻机做出7纳米 ...

切!无知!用碳基材料做芯片太容易做到了
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地板
发表于 2020-10-19 20:42:03 来自客户端 | 只看该作者
大陆估计该挖的人基本上都挖到手了,差距有望从二十年缩短到三到五年,估计也就是明年年内的事。这个世界用钱解决不了的事非常少。
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